ชื่องานวิจัย ( Article Name)
29
Variation of color in Zirconium nitride thin films prepared at high Ar flow rates with reactive dc magnetron sputtering
บทคัดย่อ ( Abstract )
This study is to evaluate a color variation of the zirconium nitride thin film deposited at N2 flow rates in the range of 0.0 to 6.0 sccm, whereas the high Ar flow rate is fixed at 6 sccm. The thin films were deposited on unheated silicon wafer (100) with a reactive DC magnetron sputtering. The deposition current and deposition time were 0.6 A and 15 minutes, respectively. The color of films was measured using a spectrophotometer on CIE L*a*b* color index. The surface morphology and thickness of the films were investigated by atomic force microscopy (AFM). The structure was characterized by X-ray diffraction (XRD). The XRD results reveal the structures changes of film system from α-Zr, α-ZrN0.28, ZrN, Zr3N4 and finally amorphous with the increasing of N2 flow rate. The average film thickness was varied from a minimum value of 85.8 nm to a maximum value of 276.0 nm. In the study, colors of the deposited film were changed from silver, dark brown, brown and to blue. Interestingly, it was found that no golden color zirconium nitride film were obtained under the interested conditions.
เอกสารวิจัย ( Paper )
ผู้เขียน ( Authors )
- ภัทริณี คลุมดวง
- อดิศร บูรณะวงศ์
- รศ.ดร.สุรสิงห์ ไชยคุณ
- ศ.ดร.พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ
ข้อมูลการเผยแพร่ ( Journal Infomation )
ชื่อวารสารที่ตีพิมพ์
Procedia Engineering
หน่วยงานเจ้าของวารสาร
ELSEVIER
ลิงค์ฐานข้อมูลวารสารที่เผยแพร่
http://www.sciencedirect.com/science/journal/18777058/32/supp/C?sdc=1
ประเภทฐานข้อมูล
-
ประเมินบทความโดย
Jakrapong Kaewkhao, Pichet Limsuwan, Preecha P.Yupapin P.Yupapin and Serm JanJai JanJai
วันที่ได้รับการอนุมัติ
Jul 23, 2560
วันที่เผยแพร่
Nov 25, 2554
เผยแพร่ระดับ
ระดับนานาชาติ
เลขที่ ISBN / ISSN / DOI
doi.org/10.1016/j.proeng.2012.02.032
ปีที่ - ฉบับที่ - หน้าที่
ปี 2012 ฉบับที่ 32 หน้าที่ 916-921
แหล่งทุนงานวิจัย
เงินจากแหล่งทุนอื่น ๆ
วันที่อัพเดตข้อมูลล่าสุด
2017-07-23 08:24:09